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溫室西瓜栽培，怎樣設計株行距？如何進行留蔓、整蔓和吊秧？

　　在溫室中栽培西瓜，可以利用設施的有利條件，實行寬窄行、吊秧、籬架栽培，一般寬行距90--100厘米、窄行距40—50厘米，株距按40--50厘米，其栽植密度提高至1800--2400株/畝。
　　西瓜定植后，為提高早期葉面積系數，不可急于抹芽，應讓其隨意生長，盡快增加葉面積，促根壯秧。待瓜秧長至60厘米以上時，方可抹芽打杈。抹芽時先選留4條大蔓（包括主蔓），讓其繼續生長，其余的小瓜蔓一律疏除。
　　留下的瓜蔓，從中選出兩條較大的瓜蔓，用吊瓜線按吊架黃瓜的方法，吊向空中，吊蔓時要采取“S”型纏蔓，使瓜蔓彎曲上升，以緩和瓜蔓長勢，和充分利用空間。瓜蔓葉腋間發出的二次副蔓，除座瓜節位處的1條，留3—4葉摘心，保留外，其余副蔓要全部及早疏除，以防止生長點過多，造成營養競爭，惡化光照條件，影響座瓜。
　　對另外二條瓜蔓，一條留8—10葉摘心，并抹除其二次副蔓，另一條瓜蔓，要及時抹除二次副蔓，讓其在行間地面上延伸，人工授粉的同時摘除其生長點及其副蔓，排除競爭，以利座瓜。
　　這樣操作，可以在西瓜的生育早期，較多地保留成齡葉片，增大瓜田早期的葉面積系數，充分利用空間。較大的葉面積，能較多地制造有機營養，促進根系發達、壯秧、促瓜，為以后的高產優質打下基礎。
　　西瓜坐穩以后，一般情況下，隨著幼瓜的加速膨大，瓜秧營養生長會逐漸減慢、直至停止。但在溫室中栽培，因栽植密度大，肥水充足，瓜秧仍會旺長不停，若任其生長，會造成瓜秧郁閉，光照條件惡化，減少光合產物的積累，造成西瓜減產，且易誘發病害。
　　因此，要注意及時控制瓜秧長勢，一旦瓜秧長至長2米左右時，要及時摘除瓜頭，疏除分杈。改善光照條件，提高光合效率，并抑制瓜秧營養生長長勢，促進有機營養輸入中心及時地轉向幼瓜。

摘自：《溫室蔬菜控害減災增收技術問答》

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